EUV 노광

노광(리소그래피)은 칩의 회로 패턴을 실리콘 위에 찍어내는 공정입니다. 빛을 마스크에 통과시켜 패턴을 새기는데, 스텐실과 기본 원리는 같지만 스케일이 나노미터 단위입니다. 일정 크기 이하로 내려가면 일반적인 빛의 파장은 그만큼 작은 패턴을 정확히 그리기엔 너무 길어집니다. 그래서 업계는 파장이 약 13.5나노미터인 EUV(극자외선)로 넘어갔는데, 이 빛을 발생시키고 초점을 맞추는 게 너무 어려워서 아예 작동하게 만드는 데만 수십 년과 수백억 달러가 들었습니다.

바로 이 어려움 때문에 전 세계에서 단 한 회사만이 EUV 장비를 만들고, TSMC·삼성·인텔 같은 세계 최첨단 파운드리 전부가 그 유일한 공급사에 의존하며, EUV 장비에 대한 수출 규제가 미중 첨단반도체 경쟁에서 가장 날카로운 무기 중 하나가 된 것입니다.