EUV 光刻

光刻是把芯片的电路图案印刻到硅片上的工艺:让光穿过掩模刻出图案，原理和模板镂空类似，只不过尺度是纳米级。一旦特征尺寸小到一定程度，普通光的波长就太长了，根本没法精确画出那么细小的图案。于是行业转向了 EUV(极紫外光)——波长约 13.5 纳米，这种光难以产生和聚焦到这种程度，以至于花了几十年、投入了数百亿美元才让它真正能用。

正因为这份难度，全世界才只有一家公司能制造 EUV 设备，也正因如此，台积电、三星、英特尔这些全球最先进的代工厂无一例外都要依赖这唯一的供应商；而针对 EUV 设备的出口管制，也因此成了中美先进芯片制造博弈中最锋利的工具之一。